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湿法刻蚀又称为湿化学刻蚀法。它主要是借助刻蚀剂与待刻材料之间的化学反应将待刻膜层溶解,以达到刻蚀的目的。湿法刻蚀一般被用于工艺流程前面的晶圆片准备、清洗等不涉及图形的环节。

等离子体由离子、电子以及未电离的中性粒子的集合组成,整体呈中性的物质状态。现今等离子体工艺应用广泛,一般适用于表面清洗,活化,表面改性,表面刻蚀和聚合处理等等。